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如何选择外半管反应釜的材质？
关于外半管反应釜釜体与反应介质部气相部位的金属表面，介质是以气液二态形式共存的，即附着在金属表面上有液滴和气态的介质，他们的流动性相对较差，其中液滴更容易黏附，液滴中的高浓度腐蚀介质使得金属表面的钝化膜遭到破坏。在其遭到破坏的区域，金属表面与液滴中活性粒子接触形成腐蚀的起始点，即形成初始腐蚀坑，随着时间的推延，逐渐形成腐蚀状况。
实验室外半管反应釜腐蚀的特性是：纵向生长是孔蚀的分布特征，并在一段很长的孕育期，数月或数年后才会出现可见的孔蚀，这主要取决于金属材料和腐蚀介质的种类。当PH值增高时，出现高度局部孔蚀（呈现加速趋势），它是阳极反应的一种独特形态，是一种自催化过程，在孔蚀内腐蚀过程产生的条件既促进又足以维持蚀孔的活性，金属在蚀孔内的迅速溶解会英气蚀孔内产生过多的症电荷，其结果就是使得氯离子迁入以维持店中性。蚀孔内高浓度的氯化物水解，其结果会产生高浓度的氢离子。
以上这两种离子都足以促进大多数金属和合金的溶解，其破损暴露的金属表面成为阳极，未破损的成为阴极，阳极电流高度集中，使得腐蚀迅速向内发展形成蚀孔，通过自身的促进作用，蚀孔快速生长。因此，介质易滞留的部位是孔蚀的多发区。
对于上部的气相空间，孔蚀多发于此，因为其视镜和人孔部位等接管本身拥有一定的非流通空间，氢离子和氯离子可以在此处有较长时间的滞留，从而产生剧烈的孔蚀。蚀孔中留有高浓度的化合物盐，由于氧在浓缩溶液中的溶解度实际上等于零，所以蚀孔内不存在氧的还原。随着蚀孔的加深，其介质浓度越来越高，滞留时间越来越长，腐蚀速率也越来越快，而蚀孔附近的表面产生阴极氧花奴元使得它不受腐蚀。
在介质静滞的条件下，尤其是有覆盖物的表面上，外半管反应釜孔蚀通常多发生与此，然而在有流速的环境中，通常会使得孔蚀减轻或基本停止，从而减轻外半管反应釜的腐蚀。
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